薄膜材料名词解释：气相状态的蒸发物质在基板上沉积凝固而形成的膜。其厚度从单原子层、单分子层到5μm。薄膜的制法有溅射蒸发法(直流溅射、高频溅射)、离子镀、等离子化学气相沉积、激光化学气相沉积、离子束组蒸发法等。材料有低温外延单晶薄膜(Si、GaAs器件、薄膜表面波器件、薄膜音响光学器件、薄膜光集成回路等)、取向性薄膜(磁性用、压电用薄膜等)、非晶薄膜(Si半导体、金属合金等)、人工多层超点阵薄膜(磁性、超导电性、新合金用Fe/Mg、InSb/GaSb、Nb/NbN、FeC/Si等)。
薄膜材料名词解释：气相状态的蒸发物质在基板上沉积凝固而形成的膜。其厚度从单原子层、单分子层到5μm。薄膜的制法有溅射蒸发法(直流溅射、高频溅射)、离子镀、等离子化学气相沉积、激光化学气相沉积、离子束组蒸发法等。材料有低温外延单晶薄膜(Si、GaAs器件、薄膜表面波器件、薄膜音响光学器件、薄膜光集成回路等)、取向性薄膜(磁性用、压电用薄膜等)、非晶薄膜(Si半导体、金属合金等)、人工多层超点阵薄膜(磁性、超导电性、新合金用Fe/Mg、InSb/GaSb、Nb/NbN、FeC/Si等)。
